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n型4H-SiC襯底的外延片

對(duì)于外延片兩個(gè)關(guān)鍵參數(shù)厚度和載流子濃度,目前n型4H-SiC襯底的外延片批量工藝水平如下:面內(nèi)厚度均勻性≤3%,面內(nèi)載流子濃度均勻性≤5%,厚度容差為±6%,濃度容差為±10%。
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中科匯珠已掌握高質(zhì)量SiC外延片的量產(chǎn)關(guān)鍵技術(shù),外延片的膜厚和載流子濃度面內(nèi)及片間均勻性已達(dá)到國(guó)內(nèi)一流水平,缺陷控制技術(shù)比肩國(guó)內(nèi)外主流外延廠商。


中科匯珠自2021年以來(lái)陸續(xù)通過(guò)了4吋650V/10A規(guī)格肖特基二極管(SBD)、6吋650V/60mW規(guī)格金屬-氧化物-半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管(MOSFET)、6吋1200V/30A規(guī)格SBD以及6吋1200V/26mW規(guī)格MOSFET的流片驗(yàn)證,良率比肩國(guó)內(nèi)一流水平,量產(chǎn)SiC外延片的質(zhì)量獲得了下游頭部器件廠商的高度認(rèn)可。


中科匯珠6吋外延片



4/6吋外延片規(guī)格參數(shù)